殘余應(yīng)力分析儀不僅可以克服應(yīng)變片處的溫差影響，更可克服應(yīng)變儀處的溫差影響，也可適用于溫差較大、氣溫極為惡劣的環(huán)境，采用單色液晶屏及 人性化機(jī)殼，使用起來(lái)直觀、方便，采用下拉式菜單界面，各選項(xiàng)及工件材料參數(shù)的輸入或查詢(xún)極為方便。使射線作用在膠片上，然后測(cè)量底片上衍射點(diǎn)的黑度來(lái)獲得衍射線的強(qiáng)度數(shù)據(jù)，殘余應(yīng)力分析儀根據(jù)實(shí)驗(yàn)裝置和條件的差別，通常采用平板底片。晶體只在選定的角度范圍內(nèi)來(lái)回?cái)[動(dòng)。這樣可以避免同一層線上衍射點(diǎn)的重疊。但要攝取多套回?cái)[圖，才能收集完整的衍射數(shù)據(jù)?；?cái)[照相法若配上計(jì)算機(jī)，自動(dòng)測(cè)量衍射點(diǎn)強(qiáng)度和指標(biāo)化，則有相當(dāng)?shù)男?。目前廣泛用于蛋白質(zhì)的結(jié)構(gòu)分析，與四圓衍射儀比較，可節(jié)省衍射實(shí)驗(yàn)的時(shí)間。

 

    當(dāng)較外層的電子躍遷到空穴時(shí)，所釋放的能量隨即在原子內(nèi)部被吸收而逐出較外層的另一個(gè)次級(jí)光電子。殘余應(yīng)力分析儀的能量是特征的，與入射輻射的能量無(wú)關(guān)，當(dāng)較外層的電子躍入內(nèi)層空穴所釋放的能量不在原子內(nèi)被吸收，而是以輻射形式放出，便產(chǎn)生X射線熒光，其能量等于兩能級(jí)之間的能量差。可為支架結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、施工及原巖應(yīng)力推算提供基礎(chǔ)資料。采場(chǎng)頂板的位移量，特別是位移速度，是頂板冒落的重要依據(jù)，當(dāng)位移值及位移速度超過(guò)預(yù)置臨界值時(shí)，應(yīng)發(fā)出警報(bào)。